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首（shǒu）頁 > 技術（shù）文章

多晶矽還原爐（lú）內主要汙染（rǎn）物及清洗工藝

時間：2016-10-12     來源： 北京德高潔清潔設（shè）備有限公（gōng）司

從（cóng）2010年至今，光伏產業呈現出了強勢的複蘇態勢，光伏市場需求旺盛。高純多晶矽是電子工業和太陽能光伏產業的基礎原料也是主要（yào）原料，在整個生產過程中，對產品質量（liàng）的控製（zhì）要求很高。目前，生產多晶矽主要采用改良（liáng）西門子法，對還原爐的（de）沉（chén）積環境的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會對產品（pǐn）質量造成影響。
 
多晶矽矽棒（bàng）
 
一、多晶矽（guī）還原爐內主要汙染物（wù）
 
根據多晶矽生產原理及實際生產情況分析，還原爐（lú）基盤及鍾罩表麵主要汙染物為無定形矽粉，其次為多晶（jīng）矽顆粒物、氯矽烷水解物及部分粉塵雜質（zhì）。
 
1、無定形矽
 
還原爐在一個周期運行後（hòu），基盤及鍾罩表麵均會產生一層土（tǔ）黃色粉末，主要成分為（wéi）無定形矽粉。基盤（pán）冷卻水溫度偏高，在還原爐（lú）基盤（pán）尾氣出口也會產生無定形矽（guī）。這些無定形矽易形成一層膜附在基盤和鍾罩內表麵，甚至（zhì）在電極和石英環表麵。
 
2、氯矽（guī）烷水解物
 
多晶矽打（dǎ）開鍾（zhōng）罩前要進行嚴格的氮氣（qì）置換，但因（yīn）還原爐結構複雜，在進料口、尾氣管、窺視鏡等地方易形成置換死角，置（zhì）換後爐內（nèi）仍（réng）會預留部分氯矽烷氣體。當爐筒提起後，氯矽烷殘留氣體與空氣接觸，會在基（jī）盤及爐筒表麵形成水解物。這些水解物一般附（fù）著（zhe）在進料管口（kǒu）及（jí）尾氣管口，其中矽（guī）酸鹽物質為白色膠狀沉澱，二氧化矽為白（bái）色粉（fěn）末狀固體，氯化（huà）氫遇潮形（xíng）成鹽酸殘留（liú）在基盤表麵。
 
3、多晶矽顆粒物
 
還原爐停爐過程中，因停爐溫度控製不均，易造成矽棒破裂（liè），產生多晶矽碎屑；收割矽棒過程中（zhōng）也會有部（bù）分碎屑（xiè）遺留；如果遇到倒（dǎo）棒，碎屑遺留會更多（duō）。
 
4、其他雜物（wù）
 
在收割矽棒（bàng）中，會帶入少量（liàng）的粉塵、油脂等汙染物。油分子對多晶矽的危害十分嚴重可能造成多晶矽反應速度減（jiǎn）慢，產量降（jiàng）低（dī），甚至矽反應停止。
 
二、多（duō）晶（jīng）矽還原爐清洗方法
 
多晶矽還原爐鍾罩清洗前後對（duì）比
 
現今各生產廠家在開發新技術、進行技術改造的同時，通過（guò）對設（shè）備的清洗來降低能耗和保證多晶矽的產品質（zhì）量。還（hái）原爐沉積多晶矽是間歇操作，一個運行周期結束後需要打開鍾罩（zhào）收割矽棒，然後進行基盤清理，再裝矽芯進（jìn）行下一個周期的化學氣（qì）相沉積。因此，想提高（gāo）設備運轉率、降（jiàng）低（dī）能耗，選（xuǎn）擇方便、快捷、處理效果（guǒ）好的清（qīng）理工藝尤為關鍵。
 
德高潔多晶（jīng）矽（guī）還原爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵，從而完成（chéng）鍾罩內部表麵的水力掃射，並采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水（去離子水或叫脫鹽水）漂洗，之後（hòu）再采（cǎi）用高純水（shuǐ）衝洗，最終完（wán）成清洗過程。
 
德（dé）高潔（jié）多晶矽（guī）還原爐鍾罩清洗係統（tǒng）核心部件高壓泵采用進（jìn）口耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵，並利用（yòng）多晶矽生產廠家的蒸（zhēng）汽餘熱將清洗介質加熱，從（cóng）而（ér）改變原電加熱工藝。我公司自行研發（fā）設（shè）計的自驅動旋轉升（shēng）降噴射機（jī）構可適應各規格的還原爐體。
  • 標簽：
  • 多晶矽
  • 還原爐（lú）
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