電子級多晶矽（guī）還原爐鍾罩自動清洗係統成功問世

多晶矽是用工業矽通過化學、物理途徑提純製得，多晶矽主要用（yòng）於生產單晶矽（guī）和衛星（xīng）太陽能電池。單晶矽即矽半（bàn）導體是多晶矽的衍生產品，是製造繼承電路和電子元件的優質材料，被廣泛應（yīng）用於電（diàn）子工業中。

還原爐沉積多晶矽是間歇操作，一（yī）個運行周期內，矽棒不斷長大，一個（gè）運行周期結（jié）束後打開鍾罩收割（gē）矽棒。但在運行期內，基盤（pán）及鍾罩表麵均會產生一層土黃色粉末，其主（zhǔ）要成分是無定形矽。在收割矽（guī）棒後，需要進行基盤和鍾罩的清（qīng）理，再裝矽芯進行下一個周期的化（huà）學氣相沉積。
 
還原爐鍾罩汙染物易造成內表麵熱量反射減少，使生產能耗增加；電極周圍汙染物降低了點擊的絕緣而導（dǎo）致運行過程中接地故障、倒棒（bàng）等（děng）生產事故。而用於（yú）電子行業的多（duō）晶矽對產品質量純淨（jìng）度的控製要求更高，

隨著我國半（bàn）導體（tǐ）工（gōng）業發展，對多（duō）晶矽純度要求越來越高（gāo），還（hái）原爐沉積環境的潔淨度就顯得特別關鍵（jiàn），任（rèn）何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內，都會對產品質量造成影響。那麽，如何清理能（néng）方便快捷，同時效果更（gèng）佳？

多晶矽還原爐清洗係統（tǒng）始於2009年，國內第一家（jiā）研發設計製造並獲得實（shí）用新型專利是北京德高潔清潔設備有限公司，該公司多晶（jīng）矽還原爐鍾罩（zhào）清洗係統覆蓋了國（guó）內多家多晶矽生產企業。早期有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等（děng），但大多釆用堿液中壓清洗，這些（xiē）清洗方式不僅不能將鍾罩清洗幹（gàn）淨，還會損（sǔn）傷表麵（miàn）鍍銀的還原爐鍾罩，為攻克這一（yī）難題，一（yī）款全新的用（yòng）於（yú）電子級的（de）多晶矽（guī）還原（yuán）爐鍾罩清洗係統（tǒng）應運而生。

電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統特點：

1、多晶矽還原爐鍾罩清洗係統以水為動力，以水力（lì）自（zì）驅動（dòng）三維（wéi）洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表麵的水力掃射。

2、采用可以旋轉和升降的（de）清洗吹幹執行（háng）機（jī）構，根據還原爐每個視孔鏡相對原（yuán）點的相對位置進行準確（què）定位。可自動切換不同清洗液及吹幹，通過控製係統可（kě）對清洗、吹幹（gàn）時間等進行調整。清洗時隻需一鍵操作即可，操作簡單方便。

3、根據還原爐底部法蘭的結（jié）構特設計升級後的清洗工作台，不僅可以滿足對（duì）內壁和視孔鏡的清洗，同（tóng）時也滿足了底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證整（zhěng）個法蘭底部都被（bèi）清洗液覆蓋（gài），並清洗、吹幹。

4、在整（zhěng）個還原爐的清洗過程中，清洗、幹燥中筒內（nèi）形成微負壓狀態，防止清洗外溢，同時將底（dǐ）座與筒體下法蘭（lán）處的汙染物等一並（bìng）吹掃，通過排汙管排出，從而保證（zhèng）了整（zhěng）個過程不會（huì）對潔淨區造成汙染（rǎn）。
 
經過實際應用，多晶矽還（hái）原爐清洗係統整套係統可實現全自（zì）動化（huà）清洗操作，在一個工作（zuò）平台上，一次吊裝可依次實（shí）現自動清（qīng）洗（xǐ）烘幹全部功（gōng）能，完全實現無死角清洗，同時具（jù）有完善的（de）聯鎖和保護功能。